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中国研究团队利用冷冻电子断层扫描技术首次揭示光刻缺陷成因，通过双重优化策略将12英寸晶圆缺陷减少99%，为先进半导体制造提供突破性解决方案。

工业CT技术助力突破高性能冷却系统制造瓶颈。通过无损检测内部微流体结构，实现复杂金属部件快速开发与质量验证，为AI芯片等高端设备散热提供关键支撑。

Lumafield 推出具备 NIST 溯源的自动尺寸测量功能，将工业 CT 扫描升级为计量级工具，实现快速、高精度、自动化的几何尺寸与公差检测。