Boston Micro Fabrication (BMF)，微精密3D打印解决方案的领导者，近日宣布，美国专利商标局已授予其 美国专利号 12,420,486 B2，该专利名为《多尺度投影微立体光刻系统》（Multi-Scale System for Projection Micro Stereolithography）。该专利涵盖了BMF创新性的双重分辨率光学系统，这是公司 microArch D1025 打印机背后的核心技术。
这一专利系统通过将多个具有不同成像比率的投影镜头（例如，10微米和25微米分辨率）集成在单一光学路径中，实现了在更大构建区域内快速、高分辨率的3D打印。这一双镜头设计允许打印机根据需求动态切换分辨率，在不妥协精度的情况下优化细节和生产效率。
Boston Micro Fabrication CEO John Kawola 表示：“这项专利进一步巩固了我们在超高精度增材制造领域的领导地位。双重分辨率架构提供了速度与精度的独特结合，使工程师能够在单次打印中制造出既具复杂精细特征又具大几何形状的微型部件。”
这一创新代表了 投影微立体光刻（PµSL） 技术的重大进展，拓展了微型3D打印在医疗设备、电子、光子学、微流体学及研究等行业的应用潜力。通过自动为关键特征分配10微米的精细曝光并为较大区域分配25微米曝光，该技术实现了更快速的构建并确保了复杂几何形状中的一致性微米级精度。
此项专利于 2025年9月23日 授予，发明人包括 Dr. Chunguang Xia 和 Dr. Jiawen Xu，并归 BMF Material Technology Inc.（位于中国深圳）所有，后者是 Boston Micro Fabrication 的母公司。
BMF 联合创始人兼首席技术官 Dr. Xia 补充道：“microArch D1025 体现了我们突破微观尺度极限的使命。这个双重分辨率系统不仅是一个重大的光学突破，它是一个平台，推动了下一代微型制造设备的诞生。”
microArch D1025 于 2024年 推出，是首个采用这一专利双重分辨率概念的商业化系统，提供10微米和25微米两种模式。该系统已广泛应用于需要精度与效率的医疗设备和电子产品制造商。
了解更多信息，请访问：www.bmf3d.com
