Artec 3D正式推出Artec Studio 20.3更新版本，所有Artec Studio 20用户皆可使用。
升级至新版Artec Studio，可提升Artec Spider II、Ray II及AI摄影测量功能的多项性能。20.3版本内置AI摄影测量功能，可直接把照片或视频转换成3D模型。此外，操作界面中的工作流程、纹理及用户界面均有升级。
除了提升性能、效率与模型质量，用户还能获得更流畅、更直观的3D数据采集与处理体验。对于有检测需求的用户，20.3版本已兼容PolyWorks Inspector软件。总体而言，此次升级对各领域应用均有显著优化，能为所有Artec用户带来切实的改善体验。
三维扫描软件兼容PolyWorks Inspector
基于与工业计量软件开发商Innovmetric新达成的合作协议，Artec Studio现已集成PolyWorks Inspector软件，用户能够将网格模型、点云及CAD基元直接导出至PolyWorks进行分析。
该软件内置符合ISO与ASME标准的几何尺寸与公差（GD&T）工具，能够快速精准地进行测量、分析和公差检测，从而高效“提炼”出可操作的分析结果。
Spider II与Ray II功能上新
在Artec Studio 20.3中，Spider II的扫描减面功能进一步升级。这款轻巧便携的手持扫描仪能以超高分辨率捕获数据。为方便后续数据导出，此前已增加降低帧捕获率的选项。用户现在还能降低每帧的点云数量，确保仅采集必要数据，从而加快处理速度。
Ray II现支持全景功能，这意味着用户可以直接导出全景图像与扫描点位绑定的E57格式数据。该功能不仅改善了Ray II与第三方AEC软件的兼容性，也为大规模测量提供了关键的场景信息。
AI摄影测量功能升级
Artec Studio 20.3对AI摄影测量进行了重要升级。现在，用户生成3D模型时无需使用掩膜。此前，使用掩膜处理时，被摄物体需始终完整处于取景框中，但是特写镜头会干扰算法。无掩膜模型捕获则消除了这一限制，让新手也能更轻松地获得高质量成果。
该功能当前配备两种算法：一种适用于近距离捕获中小型物体（无掩膜），另一种则适用于需要翻转的物体（需掩膜）。无掩膜模式适用于特征缺失物体，而有掩膜模式适用于大多数应用场景。
纹理功能改善
Artec Studio的纹理功能主要在两个方面得到提升：工作流程（Workflow）整合与增强的自定义能力。Artec Studio 20内含优先使用清晰图像的功能，这是一种利用最佳帧创建摄影测量模型的新方法。如今，通过定制的处理工作流程，用户只需一键即可自动启用该设置。
整体改进与错误修复
- 改善16位纹理支持
- 新增对NVIDIA 50xx系列显卡的RTF与ViewPlanner兼容性支持
- 统一Artec Studio Pro版、Lite及试用版的主界面
- 改善Spider II的纹理亮度
- 改善导出至Design X/Control X的流畅度
综上，本次更新标志着20.3版本在稳定性与功能完善性上达到了新的高度。Artec 3D将持续优化软件产品，为用户提供优质产品和服务。
文章转自埃太科三维官方公众号，如有侵权，请联系删除，更多信息请访问：www.artec3d.cn
