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中国研究团队利用冷冻电子断层扫描技术首次揭示光刻缺陷成因,通过双重优化策略将12英寸晶圆缺陷减少99%,为先进半导体制造提供突破性解决方案。
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EuQlid公司推出量子成像平台Qu-MRI,实现对半导体与电池内部电流的无损3D测绘,以纳米级精度解决高端制造中的计量与检测瓶颈。
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