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随着芯片架构和先进封装日益复杂,ZEISS通过ZEISS NLX、ZEISS DUNE以及AIMS EUV 3.0等技术,推进芯片内部结构、晶圆形貌和光掩模缺陷的检测与计量。
从实验室测试到光学晶圆允收测试(OWAT),介绍硅光晶圆级测试面临的带宽、波长精度、去嵌、光电耦合和自动化挑战,以及是德科技 NX5402 系列测试方案。
Wooptix推出Phemet半导体计量系统,采用波前相位成像技术,单次成像即可实现亚纳米分辨率、千万级数据点的晶圆形貌全自动高速测量。
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