Onto Innovation 推出了 Atlas G6 光学关键尺寸（OCD）计量系统，旨在应对先进半导体节点中日益复杂的过程控制挑战。随着行业迈向第二代环绕栅极（GAA）逻辑器件以及未来的垂直栅极DRAM架构，以满足AI应用需求，制造商正面临更为严苛的结构尺寸控制，每一代的尺寸缩小幅度可达30%。
这些更小的器件尺寸对计量精度提出了前所未有的高要求，包括在GAA结构中对单根纳米线线宽的关键尺寸测量，以及在高带宽存储器（HBM）中对更小DRAM单元结构的精确控制。Atlas G6系统采用先进光学技术，在实现更小测量光斑的同时，显著提升了测量精度与信噪比，能够有效支持上述尖端器件的制造需求，助力客户建立稳健、可靠的过程控制体系，为量产下一代芯片奠定基础。目前，该系统已获得多家全球领先的逻辑和存储器制造商的量产订单。
更强信噪比与关键计量能力，应对GAA与HBM挑战
即使在测量光斑显著缩小的情况下，Atlas G6仍可提供卓越的信噪比性能，为GAA和HBM技术带来前所未有的关键计量能力：
- 对于GAA器件：系统能够实现对每一根纳米线尺寸的精准测量与控制，这是保障下一代晶体管实现更高运行速度和更低功耗的关键。Atlas G6通过增强的实时稳定技术，大幅提升了测量的精度与准确性，成功应对了这一核心技术挑战。
- 对于HBM：更小的DRAM单元块有助于提升带宽效率、降低功耗并改善延迟。Atlas G6凭借其小光斑特性，可直接在DRAM单元结构上完成高精度测量，从而帮助制造商收紧工艺窗口，最终提升产品良率与长期可靠性。
此外，该系统还引入了额外的数据通道，并与Onto独有的 Ai Diffract OCD分析软件 及模型驱动的机器学习算法结合，进一步增强了配方的稳健性并缩短了解决周期。
树立光学计量新标杆
“作为我们屡获殊荣的Atlas系列的最新进化版本，Atlas G6能够对以往难以测量的器件特征实现有效控制。” Onto Innovation产品解决方案执行副总裁Ido Dolev表示，“AI技术的发展依赖于过程控制的创新，而Atlas G6计量系统为光学计量性能树立了全新基准。”
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